Fabriqué à l'aide des dernières technologies et conçu pour offrir une fiabilité et une constance de performances inégalées. L'oxyde thermique sec et humide est un outil essentiel pour les fabricants de semi-conducteurs du monde entier car il offre un moyen efficace de produire des tranches de haute qualité qui répondent à toutes les exigences exigeantes de l'industrie.

 

L’un des principaux avantages de Thermal Oxide Dry and Wet est sa capacité à fournir une couche d’oxyde de haute qualité à la surface de la tranche. Cette couche d'oxyde est essentielle pour protéger le silicium de la contamination et pour garantir que les circuits de la tranche sont correctement isolés. La couche d'oxyde offre également une excellente qualité de film et une excellente uniformité, essentielles à la fabrication de tranches de haute qualité.

 

Un autre avantage du Thermal Oxide Dry and Wet est qu’il s’agit d’un produit respectueux de l’environnement. Il est conçu pour minimiser l’impact sur l’environnement et utiliser moins de ressources tout au long du processus de fabrication. Cela en fait une solution idéale pour les entreprises qui s’engagent dans des pratiques de fabrication durables et respectueuses de l’environnement.

 

Nous pouvons fournir un diamètre de 2"-12", une épaisseur de film d'oxyde 30-1000nm, pouvons traiter des spécifications ultra-épaisses 1-20um, uniformité

 

http://fr.sibranchwafer.com/